01/16/2010
NEC일렉트로닉스, 회록선폭 40나노의 LSI를 2008년말부터 양산
NEC일렉트로닉스, 회록선폭 40나노의 LSI를 2008년말부터 양산
NEC일렉트로닉스는 16일, 주력시스템인 LSI(대규모집적회로)로서
회로선폭40나노(나노:10억분의1)메타의제품을 2008년말부터 양산한다고 발표했다. 휴대기기, 게임기용 등으로 출하한다. 현재,
LSI로서 선폭이 가장좁은제품은 마쯔시다전기산업 등의 45나노. 세계최선단제품을 양산해서 저코스트, 저소비전력 추진해서
경쟁력을 끌어올린다.
회로선폭40나노(나노:10억분의1)메타의제품을 2008년말부터 양산한다고 발표했다. 휴대기기, 게임기용 등으로 출하한다. 현재,
LSI로서 선폭이 가장좁은제품은 마쯔시다전기산업 등의 45나노. 세계최선단제품을 양산해서 저코스트, 저소비전력 추진해서
경쟁력을 끌어올린다.
회로의 선폭이 좁아지면 1장의 웨이퍼에서 뽑아낼수 있는 반도체수가 늘어, 생산코스트가 절감된다. 소비전력이
적어지고, 신호전송도 고속으로 되어 기기의 조작이 쉬워지는 등의 메리트가 있다.
적어지고, 신호전송도 고속으로 되어 기기의 조작이 쉬워지는 등의 메리트가 있다.
NEC일렉트로닉스는는 생산자회사 NEC야마카타의 공장에 100억엔을 투자해 제조장치를 설치해서, 55나노로
선폭을줄인 샘플제품출하를 개시했다. 40나노는 55나노와 같은제조장치를 사용하기때문에, 추가설비부담은 발생하지 않을전망.
선폭을줄인 샘플제품출하를 개시했다. 40나노는 55나노와 같은제조장치를 사용하기때문에, 추가설비부담은 발생하지 않을전망.
출처:일본경제신문(2007.11.16/22:00)
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